ETD - UIR

Electronic Thesis and Dissertation

  • Home
  • Information
  • News
  • Help
  • Librarian
  • Member Area
    Member Login Online Registration
  • Select Language :
    Arabic Bengali Brazilian Portuguese English Espanol German Indonesian Japanese Malay Persian Russian Thai Turkish Urdu

Search by :

ALL Author Subject NPM Advanced Search

Last search:

{{tmpObj[k].text}}
Image of Analisis Stabilitas Nanofluida Graphene Oxide Nanosheets dan Graphene Oxide Nanosheets Modifikasi Hydrolyzed Polyacrylamide dalam Aplikasi Nano EOR
Bookmark Share

Text

Analisis Stabilitas Nanofluida Graphene Oxide Nanosheets dan Graphene Oxide Nanosheets Modifikasi Hydrolyzed Polyacrylamide dalam Aplikasi Nano EOR

PUTRI RAHMATILLAH - Personal Name; Mursyidah - Personal Name;

Metode EOR khususnya chemical flooding masih terbatas dalam menjangkau minyak yang terperangkap di pori-pori kecil reservoir. Penggunaan nanofluida sangat berpotensi untuk menembus pori kecil reservoir. Salah satu nanofluida yang sangat diminati saat ini adalah Graphene Oxide Nanosheets (GONs), namun stabilitas nanofluida GONs harus diteliti agar tidak terjadi agregasi. Modifikasi permukaan dilakukan untuk meningkatkan stabilitas nanofluida. Dalam tugas akhir ini bertujuan menganalisis karakterisasi GONs dan GONs-HPAM melalui karakterisasi XRD, FTIR, SEM, dan UV-Vis. serta menganalisis stabilitas nanofluida GONs modifikasi HPAM dengan variasi konsentrasi HPAM 100, 200, 300, 400, 500, dan 700 ppm. Stabilitas nanofluida diuji melalui observasi visual 24 jam dan nilai zeta potential. Hasil karakterisasi GONs dan GONs-HPAM menunjukkan perbedaan nilai puncak XRD yaitu 2? = 12,33° dan 2? = 10,48°. Pada hasil FTIR GONs menunjukkan puncak gelombang 3465,27 cm-1 yang berasal dari gugus hidroksil dan GONs-HPAM menunjukkan puncak gelombang 3438,17 cm-1 yang berasal dari gugus hidroksil GONs dan gugus amida HPAM. Hasil SEM GONs dan GONs-HPAM menunjukkan tekstur permukaan yang bergelombang dan seperti lembaran. Hasil UV-Vis GONs dan GONs-HPAM menunjukkan adanya red shift puncak absorbansi dari 225 nm menjadi 232 nm. Berdasarkan observasi visual, nanofluida GONs memiliki stabilitas rendah yaitu 10–30 menit, sedangkan GONs Modifikasi HPAM memiliki waktu stabilitas dari 40-90 menit. Seiring dengan zeta potential nanofluida GONs memperoleh nilai sebesar +3,2 mV dan GONs Modifikasi HPAM menunjukkan peningkatan menjadi -3,8 mV pada konsentrasi optimal 500 ppm, yang mengindikasikan peningkatan stabilitas koloid akibat stabilisasi elektrostatik. Namun, pada konsentrasi 700 ppm, terjadi penurunan stabilitas akibat fenomena bridging flocculation. Uji stabilitas menunjukkan bahwa HPAM mampu meningkatkan stabilitas nanofluida seiring peningkatan konsentrasi hingga batas optimal 500 ppm.


Availability
#
Teknik Perminyakan (Fakultas Teknik) Location name is not set
ETD2955II
Available but not for loan - ETD
Detail Information
Call Number
-
Language
Indonesia
NPM
213210343
Publisher
Teknik Perminyakan : Universitas Islam Riau., 2025
Keyword(s)
Kata Kunci : Graphene Oxide Nanosheets, Hydrolyzed
Other Information
Petugas
Budi Santoso
Other version/related

No other version available

File Attachment
  • Please login to see this attachment
Comments

You must be logged in to post a comment

ETD - UIR
  • Information
  • Services
  • Librarian
  • Member Area

About Us

As a complete Library Management System, SLiMS (Senayan Library Management System) has many features that will help libraries and librarians to do their job easily and quickly. Follow this link to show some features provided by SLiMS.

Search

start it by typing one or more keywords for title, author or subject

Keep SLiMS Alive Want to Contribute?

© 2026 — Senayan Developer Community

Powered by SLiMS
Select the topic you are interested in
  • Computer Science, Information & General Works
  • Philosophy & Psychology
  • Religion
  • Social Sciences
  • Language
  • Pure Science
  • Applied Sciences
  • Art & Recreation
  • Literature
  • History & Geography
Icons made by Freepik from www.flaticon.com
Advanced Search
Where do you want to share?